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消息称如果该项目继续推进，中芯国际、华虹等中国半导体企业可以继续使用荷兰的设备生产28纳米及更成熟工艺的芯片。图源ASML消息称该特别版DUV光刻机基于TwinscanNXT:1980Di光刻系统改造，而1980Di是10年前推出的旧型号，不在本次官方禁令范围内。1980Di是ASML现有效率比较低的光刻机，支持NA1.35光学器件、分辨率可以达到<38nm，理论上可以支持7nm工艺。大多数晶圆厂使用1980Di光刻机，主要生产14nm及以上工艺芯片，很少使用其生产7nm芯片。亚汇网在此附上DigiTimes广告声明：文内含有的对外跳转链接（包括不限于超链接、二维码、口令等形式），用于传递更多信息，节省甄选时间，结果仅供参考，亚汇网所有文章均包含本声明。